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全場變形光學測量系統

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詳細介紹

一、產品介紹

         該系統基于深度優(yōu)化后的隨機散斑跟蹤和數字圖像相關(Digital Image Correlation, DIC)算法,具備二維全場變形測量(如應變場、位移場、速度場等)、實時多點變形跟蹤兩大功能。

       配置于高溫力學、低溫力學試驗系統上,可進行高溫或低溫環(huán)境下的力學性能試驗中材料變形測試。

       配置于高溫力學、低溫力學試驗系統上,可進行高溫或低溫環(huán)境下的力學性能試驗中材料變形測試。

       該系統由工業(yè)相機、鏡頭、電源、標定板、三腳架及云臺、LED照明光源等組成。

       相機選用德國Allied Visino Technologies 公司生產的1394接口照相機,鏡頭采用日本Mytron公司及日本Computar公司生產的低畸變鏡頭。

       軟件包含支持32位和64位操作系統,分為兩點測量、二維變形場測量和實時兩點測量三部分,功能區(qū)包含8個子菜單對應的35和小菜單,7組26個快捷按鈕。包含前處理窗口、后處理窗口、兩點測量曲線窗口、ROI(感興趣區(qū)域)直方圖窗口等。

 

二、主要技術參數

位移精度:

理論圖像的像素精度:1/200像素

應變精度:

室溫下按標距長度1000像素計算,工程應變的理論精度為10微應變。

應變測量范圍:0.01%到100%

系統分辨率:≤1μm

 

三、操作界面實例展示

   

 

二維場測量主界面實例

 

兩點測量及實時測量主界面

 

關鍵詞:

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